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氬氣知識氬氣的特殊用途

   高純氬氣主要用途:用于焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長(cháng)、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣,為了提高硅晶體的質(zhì)量,如何選用較高純度的氬氣,是制作硅晶體的一個(gè)議題。通過(guò)對本裝置的使用,氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時(shí),水分也小于1ppm時(shí),制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,這樣就提高了單晶的使用壽命并能達到要求,贏(yíng)得客戶(hù)的滿(mǎn)意和市場(chǎng)的需求。由于一般液氬汽化后未經(jīng)過(guò)純化處理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時(shí)氣體供應商提供的氬氣超過(guò)了此范圍,但使用氬氣的客戶(hù)確不知道其質(zhì)量,所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何,只要經(jīng)過(guò)純化裝置的處理后,進(jìn)入拉晶爐的氬氣,純度始終是恒定的。一般 O2<0.2ppm,水分<1ppm,這樣穩定的氬氣對生產(chǎn)晶體質(zhì)量是有保證的。


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